Библиотека

Опрос

Наиболее нуждающиеся в накопителях энергии области:
 

PVD-процесс

Напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы (англ. physicalvapourdeposition; сокращённо PVD) обозначает группу методов напыления покрытий (тонких плёнок) в вакууме, при которых покрытие получается путём прямой конденсации пара наносимого материала.

Различают следующие стадии PVD-процесса:
  1. Создание газа (пара) из частиц, составляющих напыление;
  2. Транспорт пара к субстрату;
  3. Конденсация пара на субстрате и формирование покрытия;
К группе PVD-методов относятся перечисленные ниже технологии, а также реактивные варианты этих процессов.
  • Методы испарения (англ. evaporative deposition);
    • Термическое испарение
    • Испарение электронным лучом (англ. electron beam evaporation);
    • Испарение лазерным лучом (англ. pulsed laser deposition, pulsed laser ablation): Атомы и ионы испаряются лазером, работающим в импульсном режиме.
    • Испарение электрической дугой (англ. arc evaporation, Arc-PVD): Атомы и ионы освобождаются из исходного состояния материала в результате воздействия сильного тока, текущего в электрической дуге между двумя электродами, и переходят в газовую фазу.
    • Эпитаксия молекулярным лучом (англ. molecular beam epitaxy)
  • Распыление (англ. sputtering): Исходный материал распыляется бомбардировкой ионным потоком и переходит в газовую фазу.
    • Напыление с поддержкой ионным лучом (англ. ion beam assisted deposition, IBAD)
  • Имплантация ионов